2018年度最後のレジデンス・プログラムであるアドバンスプログラムEに参加したアーティストの作品をご紹介いたします。

ハワイ、イギリス、オーストラリアの延べ3か国から5人の女性アーティストが来日し、
MI-LAB河口湖スタジオでの一番寒い季節を乗り越え、木版画の滞在制作を行いました。2017年にハワイで開催された国際木版画会議でMI-LABを知って参加したアーティストも数名おり、ハワイで展開される独自の木版画の捉え方をMI-LABが知る良い機会ともなりました。
本プログラムは、長沢アートパーク旧レジデンスプログラム参加者であり、近年MI-LABのメイン指導者としても活躍していた故・楚山哲雄マスタープリンターが最後に教鞭を執ったレジデンスプログラムでもあります。故人の最後のレジデンス生徒による作品の発表をもって、故人の功績を讃えたいと思います。
展示作家は英語版の下部をご覧下さい。

会期	2019年1月26日（土）～2月1日（金）　会期中無休 / 入場無料
開廊時間	13:00-17:00　最終日（2月1日）は15:00まで
会場	CfSHEギャラリー 東京都千代田区外神田6-11-14 アーツ千代田 3331 B109

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Exhibition of MI-LAB Advanced Program E works

CfSHE Gallery is pleased to show the prints created during our last residency program of the year 2018 “Advanced Program E”.
In this program five artists from Hawaii (USA), UK, and Australia stayed and worked on Mokuhanga at MI-LAB Kawaguchi-ko studio during our coldest season of year.
We had a few new participants who learned about the MI-LAB after the “International Mokuhanga Conference Hawaii 2017”. Some of them had different points of view regarding technique, and they gave the MI-LAB the opportunity to know new techniques of Mokuhanga.

Furthermore, this was the last Residency program taught by Master Printer Tetsuo Soyama, who had played an active part in the MI-LAB residence and CfSHE workshops and summer camps. He passed away the 9th of January. The exhibition will be dedicated to the Master.

For more info, please write from the contact form.

Exhibiting Artists:
Ivy Maile Andrade /イヴィ・マイル・アンドラデ (USA)
Lynnette Gould / ルネット・グッド (Australia)
Lucy May Shofield / ルーシー・メイ・シェーンフィールド (UK)
Faith Stone / フェイス・ストーン (USA)
Trish Yates /トリッシュ・イエイツ* (Australia)
* MI-LAB AIR award winner at International Mokuhanga Conference at Hawaii / ハワイ国際木版画会議・MI-LAB AIR賞受賞者